Technology | 2015.06.23
Samenvatting: CyberOptics presenteert bewezen methodes voor verwijderen luchtdeeltjes op EMLC 2015
EINDHOVEN, Netherlands--(BUSINESS WIRE)--CyberOptics Corporation, een toonaangevende ontwikkelaar en producent van zeer precieze systemen voor driedimensionale waarneming, geeft op 22 juni 2015 een presentatie op de 31e European Mask and Lithography Conference in het Pullman Hotel in Eindhoven. De tweedaagse conferentie is gericht op de wetenschap, technologie, techniek en toepassing van masker- en lithografietechnologieën. Allyn Jackson, applicatietechnicus van CyberOptics, deelt zijn inzicht,
For more information, please visit
http://www.businesswire.com/news/home/20150622005854/nl
Instagram is adding automatic in-app text translation - The Verge views: 1520
Here’s a ‘Brand-New’ Massive Multilingual Dataset for Machine Translation views: 1504